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當(dāng)前位置：上海添時科學(xué)儀器有限公司>>制膜設(shè)備>>磁控濺射鍍膜>> GSL-CKJS-560-B2磁控濺射
主要特點：
1、真空度高。
2、可制備多種薄膜，金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
4、清理安裝便捷。
5、控制可選一體化觸摸屏控制
技術(shù)參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱 | GSL-CKJS-450-B1磁控濺射 | |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC380V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣（純度99.99%以上），需自備實驗氣體氣瓶（自帶?10mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、場地：設(shè)備尺寸3500×1600mm，承重1000kg以上 5、通風(fēng)裝置：需要 | |
| 主要參數(shù) | 1、主濺射室尺寸：?560×355mm梨形真空室 2、主濺射室真空度：5×10-6Pa 3、進(jìn)樣室尺寸: ?255×430mm 4、進(jìn)樣室真空度：5×10-4Pa 5、永磁靶5套，靶材尺寸φ2″，各靶射頻與直流濺射兼容（其中1個靶可濺射鐵磁材料） 6、公轉(zhuǎn)樣品臺6個工位，5個水冷工位，1個加熱工位，加熱工位最高溫度 600℃±1℃ 7、樣品尺寸：φ1″，可放置6片 8、基片可加-200V負(fù)偏壓 9、進(jìn)樣室可一次性安裝6片樣品，可對被鍍樣品進(jìn)行退火處理，退火溫度 800℃±1℃ 10、進(jìn)樣室可對基片進(jìn)行反濺清洗 11、進(jìn)樣室和主濺射室之間通過磁力樣品機構(gòu)進(jìn)行樣品傳遞 | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 整機尺寸：2700×900mm×2000mm。 | |
| 標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1、電源控制系統(tǒng)1套 2、真空獲得系統(tǒng)1套 3、真空測量裝置1套 | |
